

UV STRIPLAC PEEL OR SOAK - Base coat - relax your mind shimmer
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Gel
Relax your Mind è di un rosa delicato con una punta di nude che conferisce alle unghie un aspetto naturale ma sofisticato. Un leggero luccichio penetra nella Striplac, cattura la luce e dona alle unghie una lucentezza discreta ma incantevole. Striplac è uno smalto in gel a UV che è pronto in meno di 15 minuti e dura fino a tre settimane. La tecnologia Peel-Off protegge le unghie, perché lo smalto può rimuoversi facilmente.
1. Lucidare le unghie e sgrassare con il pad detergente 2. Applicare un sottile strato di colore sulle unghie 3. Far indurire lo smalto UV per 60 secondi sotto la lampada LED 4. Applicare il Top Coat Striplac sulle unghie 5. Far indurire sotto la lampada LED per 90 secondi 6. Sgrassare le unghie con i pad detergenti Striplac per rimuovere lo strato appiccicoso. *CONSIGLIO: Applicare Care & Gloss dopo per la cura. Rimozione Peel off: Applicare l'Attivatore Peel Off sulla lamina ungueale e lasciare agire brevemente. Premere lo smalto dal bordo laterale dell'unghia con il bastoncino - ora è possibile semplicemente staccarlo. Soak off: Impregnare il pad di alluminio con il Soak Off Liquid e premere saldamente il foglio attorno alla lamina ungueale. Lasciare agire per 5-10 minuti. Successivamente, è possibile rimuovere facilmente lo smalto con un bastoncino senza lasciare residui.
Tutti gli ingredienti (INCI)
- Componenti:
- INGREDIENTS: ALIPHATIC POLYESTERURETHANE ACRYLATE, HYDROXYPROPYL METHACRYLATE, ETHYL ACETATE, BUTYL ACETATE, NITROCELLULOSE, POLYACRYLATE POLYMER, SILICA DIMETHYL SILYLATE, BIS(GLYCERYL DIMETHACRYLATE) PYROMELLITATE, ACETYL TRIBUTYL CITRATE, ETHYL TRIMETHYLBENZOYL PHENYLPHOSPHINATE, ISOPROPYL ALCOHOL, CALCIUM SODIUM BOROSILICATE, ACRYLATES COPOLYMER, BIOTIN, CAFFEINE, ALIPHATIC URETHANE ACRYLATE, PRUNUS ARMENIACA (APRICOT) KERNEL OIL, GLYCERYL DIMETHACRYLATE, CI 77891, POLYESTER, CHENOPODIUM QUINOA SEED EXTRACT, HYDROLYZED CICER SEED EXTRACT, LENS ESCULENTA (LENTIL) SEED EXTRACT, P-HYDROXYANISOLE, TIN OXIDE, BHT, MEK, ACID,















